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晶片清洗劑

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地

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更新時間:2021-11-29 16:56:01瀏覽次數(shù):620次

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遠(yuǎn)岸科技的晶片清洗劑含有多種高效的表面活性劑,以及高質(zhì)量的緩蝕劑和一些其他助劑。是使用特殊工藝所制成的一款水基型的清洗劑產(chǎn)品。是專門針對硅晶片切割工藝的膠粘合劑去除所研制的,具有十分優(yōu)異的除膠性能。多是用于太陽能電池硅晶片切割加工后的除膠作業(yè),也可以用于各類芯片的除膠作業(yè),在各大客戶的反響良好,值得大家了解,咨詢。

產(chǎn)品介紹

Q101晶圓清洗劑

應(yīng)用于各種芯片、線路板、攝像頭模組VCM、LED等超精密電子元器件的清洗;主要用于清除表面污垢、PCB&FPC松香助焊劑殘留、油脂、細(xì)小顆粒物少量殘留的膠類物質(zhì) 產(chǎn)品具有很強(qiáng)的滲透性,對細(xì)小縫隙、微孔及納米級顆粒物具有*的清洗力;清洗劑呈堿性,但無任何堿性成分。

特點:

清洗后產(chǎn)品良率可達(dá)99.8%

無污染可做到*、可生物降解;

滲透、去污力強(qiáng),適合于形狀復(fù)雜電子零部件及深孔部件

污垢殘留物經(jīng)清洗、剝離后沉底,增強(qiáng)了循環(huán)使用的壽命

不損傷電路及芯片鍍膜層

無閃點,不會燃燒,使用安全

環(huán)保,符合 ROHS 指令。

推薦工藝:

image.png


1.根據(jù)清洗臟污,1:1-5倍稀釋使用;

2.清洗溫度:清洗粉塵顆粒物20-40℃,清洗松香、殘膠50-70℃

3.清洗時間5-10分鐘,產(chǎn)品表面有頑固賬污可適當(dāng)延長清洗時間;

4.定時清理槽液內(nèi)沉淀物,以免影響清洗效果,有循環(huán)過濾裝置;

5.超精密產(chǎn)品建議使用噴淋設(shè)備或高頻超聲波設(shè)備,避免超聲波震動傷到產(chǎn)品;

清洗前后效果圖:

image.png

物性參數(shù):

特性

數(shù)據(jù)

外現(xiàn)(原液)

透明液體

外觀(稀釋液)

透明液體

氣味

輕微

[℃]

1

密度

[kg/m3.15℃]

1100

PH值(原液)

12.5±0.5

質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):

產(chǎn)品符合中華人民共和國水基清洗劑標(biāo)準(zhǔn)JB/T 4323-2019

產(chǎn)品符合歐盟ROHS標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品包裝、貯存和運輸:

塑料桶包裝: 10KG、20KG、25KG/桶,非危險品易于儲存和運輸;

貯存期兩年,不能露天存放,防止 日曬雨淋

未使用完的清洗劑須將桶蓋擰緊,避免水分及雜質(zhì)混入。

本資料是以遠(yuǎn)岸科技認(rèn)為可靠的技術(shù)資料為基礎(chǔ)的,免費提供,僅有技術(shù)背景的人員參考,使用者應(yīng)自行處理并承擔(dān)由此引起的責(zé)任。由于使用條件超出本公司的控制范圍,對于與本資料有關(guān)的任何使用,本公司無法提供直接或暗示的保證,且不對使用本資料負(fù)任何法律責(zé)任。本文中所述的任何資料都不應(yīng)當(dāng)成使用上的許可或侵犯任何權(quán)力的建議。


產(chǎn)品參數(shù)

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