產品型號

450型電子束蒸發鍍膜系統

技術參數

系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

　　技術指標：

　　極限真空度：≤6.7×10 Pa

　　恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min

　　系統漏率：6. 7×10^-7Pa.L/S；

　　真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統e型電子槍：陽極電壓：6kv、8kv(1套)

　　坩堝：水冷式坩堝，四穴設計，每個容量11ml

　　功率：0-6KW可調

　　電阻蒸發源(可選)

　　電壓：5、10V

　　功率：電流300A，大輸出功率3Kw1套，可切換水冷電

　　極3根，組成2個蒸發舟

　　基片尺寸：可放置4″基片

　　樣品臺：基片可連續回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發源之間距離300-350mm加熱高溫度 800°C±1°C，可調手動控制樣品擋板組件1套

　　氣路系統：質量流量控制器1路

　　石英晶振膜厚控制儀：監測膜厚顯示范圍：0-99μ9999Å