目錄:宇環數控機床股份有限公司>>復雜型面拋光機>> YH2M81116A復雜型面掃磨拋光機
| 產地 | 國產 |
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復雜型面掃磨拋光機YH2M81116A主要特點
該套設備同時具備了工件盤的公轉運動和自轉運動，同時拋光盤升降運動通過伺服電機及滾珠絲杠驅動，提高了生產效率，延長了耗材使用壽命，提升了工件良率。
本機工件盤、拋光盤均由獨立的變頻器控制變頻電機實現無極調速，以滿足不同拋光工藝要求。同時拋光盤的加壓由伺服電機驅動滾珠絲杠在直線導軌上進行位移，精確控制拋光盤位移，保持壓力穩定，確保拋光精度。
本機所有能接觸到拋光液的液槽、箱體面板、接液盆，均采用不銹鋼或鋁合金等耐腐蝕材質。
設備真空系統配置有數顯真空壓力表，實時監控負壓，以防欠壓掉片。
設備配置真空氣液分離裝置，自動排液；
本機采用人機界面HMI(15寸大觸摸屏)與可編程控制PLC相結合，操作方便快捷，界面友好，信息量大。
復雜型面掃磨拋光機YH2M81116A主要用于鋁合金、不銹鋼等金屬材料和玻璃、陶瓷等非金屬材料的平面及2.5D和3D弧面的掃磨拋光，具有效率高，穩定性好，工件良率高等優點。
YH2M81116A技術參數
| 項目Item 產品型號Model | 單位 Unit | YH2M81116A |
| Lower plate尺寸（外徑×厚度） Lower plate size(OD×Thickness) | mm | φ400mm×35mm（鋁合金） φ400mm×35mm(Aluminum alloy) |
| 上盤尺寸（外徑） Upper plate size(OD) | mm | φ1135mm |
| 拋光頭數量 Number of polishing head | 個 | 5 |
| 工件盤自轉轉速 Workpiece plate rotation speed | rpm | 2～45±2 rpm |
| 工件盤公轉轉速 Workpiece plate revolution speed | rpm | 1～12 rpm |
| 拋光盤轉速 Polishing plate rpm | rpm | 2～90±2rpm |
| 拋光盤升降行程Polishing plate lifting stroke | mm | 350mm |
| 機床外形尺寸（長×寬×高） Overall dimensions(L*W*H) | mm | 1900×1500×2800mm |
| 整機重量 Total weight | Kg | 3000Kg |
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