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　　在半導體生產(chǎn)過程中，硼是一種P型雜質(zhì)。過量會使N型硅反轉(zhuǎn)，從而影響電子和空穴的濃度。因此，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。電子和半導體工業(yè)用超純水標準指南(ASTM-D5127-13)要求硼離子≤ 0.05 in e1.3μg/L。如果硼離子含量能夠達到較低的指標，則必然會改善半導體的性能。

　　半導體超純水工藝中Huncotte系統(tǒng)選用核級樹脂，可通過靶向離子交換樹脂有效控制系統(tǒng)出水的硼離子含量。采用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進行分析≤ 0.005μG/L遠低于硼離子的要求≤ ASTM-D5127-13標準中E1.3中的0.05μg/L。我們相信更高質(zhì)量的超純水可以給半導體帶來更好的性能，給半導體企業(yè)帶來更強的優(yōu)勢。