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詳細介紹
中頻磁控濺射鍍膜設備，高爾夫球具鍍膜機：
中頻磁控濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是
1.克服了陽極消失現象，
2.減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數倍。
匯成公司研發了平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。
匯成公司可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控
系統也可根據用戶要求進行設計配置。
詳情請致電我司 李國棟 http://www.suichenggd.cn
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