兆聲波清洗不僅保存了超聲波清洗的優點,而且克服了它的不足。在清洗時,由換能器發出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動,瞬時速度可達到30cm/s。因此,形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。
清洗標的:
玻璃基板/光學玻璃
主要材料:
金屬骨架+SUS304不銹鋼殼體,槽體材質SUS316不銹鋼
基礎工藝流程:
超聲→超聲→兆聲→鼓泡漂洗→熱水漂洗→慢提拉(烘干)(可增減)
設備類型:
手動/半自動/全自動(定制)
Footprint : 4000 (W) x 1150 (D) x1200(H) mm(非標)
兆聲波清洗不僅保存了超聲波清洗的優點,而且克服了它的不足。在清洗時,由換能器發出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動,瞬時速度可達到30cm/s。因此,形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。兆聲波清洗拋光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機械擦片和化學清洗兩種方法的作用。兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。