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目錄:宇環數控機床股份有限公司>>復雜型面拋光機>>平面研磨拋光機>> YH2M8432C高精度立式雙面研磨機

高精度立式雙面研磨機
  • 高精度立式雙面研磨機
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 宇環數控/YUHUANCNC
  • 型號 YH2M8432C
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 長沙市
屬性

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更新時間:2025-01-10 11:55:27瀏覽次數:3913評價

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YH2M8432C高精度立式雙面研磨機該機床主要用于閥板、閥片、磨擦片、剛性密封圈、氣缸活塞環、油泵葉片等金屬零件的雙面研磨和拋光;也可用于硅、鍺、石英晶體、玻璃、陶瓷、藍寶石、砷化鎵、鈮酸鋰等非金屬硬脆材料薄片零件的雙面研磨和拋光。

YH2M8432C高精度立式雙面研磨機主要用途:
該機床主要用于閥板、閥片、磨擦片、剛性密封圈、氣缸活塞環、油泵葉片等金屬零件的雙面研磨和拋光;也可用于硅、鍺、石英晶體、玻璃、陶瓷、藍寶石、砷化鎵、鈮酸鋰等非金屬硬脆材料薄片零件的雙面研磨和拋光。

YH2M8432C高精度立式雙面研磨機技術特點:
(1)該機為三電機控制,上拋光盤及太陽輪各由獨立減速電機驅動,下拋光盤及內齒圈同步驅動,控制靈活,工藝范圍廣;
(2)內齒圈通過凸輪機構實現升降,操作方便,升降靈活可靠;
(3)柱銷型游星輪,耐磨損,使用壽命高;
(4)雙層推拉門式防護,維護方便,防護可靠;
(5)柔性加載系統,精密電氣比例閥控制,加壓穩定可靠,壓力均勻精度高;
(6)上拋光盤設有安全自鎖裝置,與程序互鎖,確保操作安全性;
(7)觸摸屏人機操作界面,PLC控制,界面友好,信息量大;
(8)可選配恒溫冷卻系統,滿足精密拋光。

高精度,高效率平面拋光機,雙面研磨設備

項目

單位

YH2M8432C

上拋光盤尺寸(外徑×內徑×厚度)

mm

Φ1070mm×Φ495mm×45mm

下拋光盤尺寸(外徑×內徑×厚度)

mm

Φ1070mm×Φ495mm×45mm

zui大加工壓力

Kgf

300Kgf(拋光墊及毛刷拋光)

加工件zui小厚度

mm

0.4mm(為直邊工件)

加工件zui大尺寸

mm

290mm(矩形件對角線290mm)

被加工件精度


在來料平行度0.005以內時保證平行度0.005

上研磨盤轉速

rpm

5-50轉/分(無級調速)

下研磨盤轉速

rpm

Lower plate speed:5-45rpm

外形尺寸(約:長×寬×高)


1600mm×1440mm×2700mm(2.3㎡)

外型尺寸(約:長×寬×高)

mm

1600×1625×2150

整機重量

kg

3200Kg


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