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          除光纖激光標刻機外,固體激光標刻機和常用玻璃管封離式CO2激光標刻機的冷卻系統均采用水冷系統。考慮到激光加工系統的光學效率,激光標刻機的冷卻介質一般為去離子水或蒸餾水。激光標刻機的冷卻系統可分為內循環系統和外循環系統兩個部分。激光標刻機的水冷機又可分為一體機和分體機。一體機的所有部分集成在一個獨立的機箱內(上),分體機則將制冷機的壓縮機和冷凝器與其他部分分開置于另一箱體作為室外機(與家用分體空調類似),用于激光標刻機功率較大的場合。普通用途的激光標刻機的功率一般較小,通常使用一體式水冷機,冷卻系統采用空氣循環水冷卻方式。內循環采用去離子水冷卻激光器和Q開關,系統包括流量保護、水位保護、溫度控制及超溫報警等裝置,確保激光器的穩定工作。外循環采用壓縮機制冷,以確保溫度的穩定。

          激光標刻機冷卻系統基本結構：

激光標刻機外循環冷卻系統主要部件有壓縮機、蒸發器、毛細管、冷凝器和散熱風扇等。

激光標刻機內循環冷卻系統如圖2.3 所示，其主要部件有水泵、水箱、過濾器、放水閥等。