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詳細介紹
詳細說明
XUV® 系列設備的真空測量室能夠通過 X 射線熒光分析 (RFA) 檢測原子序數從Na（11）開始的輕元素。由于空氣會吸收輕元素的熒光X射線，因此在大氣環境中通常無法使用該方法。因此，該儀器非常適合對要求嚴苛的鍍層厚度進行測量和材料分析。
特性：
● 檢出限低、重復精度高，以及測量適用性廣，因此特別適用于研究和開發使用
● 配備真空測量室和高性能硅漂移探測器，能夠實現精確測量，尤其是對輕元素的測試
● 通過可編程 X、Y 和 Z 軸進行自動測試
● 準直器和濾波器可切換，因此可適用于各種材料和測試條件
應用：
涂層厚度測量
● 原子序數從Na（11）開始的輕元素鍍層，可測量厚度低至納米級
● 鋁鍍層和硅鍍層
材料分析
● 測定寶石的真偽與原產地
● 常規材料分析和取證
● 高分辨率痕量分析
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