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詳細描述：
【品牌故事】
世界光學品牌，可見光及電子光學的----德國蔡司公司始創于1846年。其電子光學前身為LEO（里奧）,更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個：
臺靜電式透射電鏡 (1949)
臺商業化掃描電鏡 (1965)
臺數字化掃描電鏡(1985)
臺場發射掃描電鏡(1990)
臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992)
臺具有Koehler照明的 200kV 場發射透射電鏡(2003)
臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發射透射電鏡(2003)
CARL ZEISS以其前瞻性的設計融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造核心*的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準的CARL ZEISS將一路電鏡市場為您開創探求納米科技的嶄新紀元。
【核心技術】
蔡司公司推出Sigma300場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，將低電壓成像技術發揮到了，采用適宜的探針電流范圍，降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma自動的四步工作流程大大節省了設置與分析操作的時間，提高效率。
【技術參數】
分辨率：1.0nm@30kV STEM
1.0nm @15 kV
1.8nm @1kV
放大倍數：10-1,000,000×
加速電壓：調整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現）
探針電流： 3pA～20nA（100nA選配） 穩定性優于 0.2%/h
低真空范圍： 2-133Pa （Sigma 300VP可用）
樣品室： 365 mm（φ），275mm（h）
樣品臺：5軸優中心全自動
X=125mm
Y=125 mm
Z=50 mm
T=-10º-90º
R=360º 連續
系統控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制
存儲分辨率：32k x 24k pixels
【產品應用】
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分 析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶 粒取向測量。
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