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USHIO牛尾曝光裝置

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更新時間:2021-09-07 15:39:06瀏覽次數(shù):731

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產(chǎn)品簡介

曝光裝置用無光罩損害之投影曝光、因應基板收縮增建,可實現(xiàn)多層類型高精確度重疊

詳細介紹

曝光裝置
用無光罩損害之投影曝光、因應基板收縮增建,可實現(xiàn)多層類型高精確度重疊。達成10μ線寬/線距,tact間曝光1.5秒能力的高密度印刷電路板用步進與重覆式曝光機。主要用途:增層印刷電路板的曝光、多層類型的重疊曝光、封裝(PKG) 、受質(zhì)、電子零件、接線與加工等
 
產(chǎn)品特點
  • 即使基板收縮仍維持重疊精確度
    針對每次的曝光區(qū)域,執(zhí)行高精確度校正。此外,采用依據(jù)類型伸縮0.1%自動變焦的「自動測量功能」修正投影倍率,大幅降低基板收縮造成的校正偏差。
  • *的TTL非曝光波長4照相隊對位方式
    采用USHIO技術(shù)「TTL非曝光方式波長校正」,在觀察光罩記號時,曝光不會達到基板校正記號。此外,可直接觀察工作記號,不會因遮罩造成亮度降低,因此能夠由鮮明的記號實施高精確度的校正。
  • 適用于各種校正工作
    具有適用于存貯類型之「類型比對功能」,無需專用的校正記號,即可執(zhí)行各種接線類型的校正。
  • 高解析能力
    配備USHIO的投影鏡頭「UPL系列」、達到高解析能力。適用于10μ線/空間之設計規(guī)格的正式量產(chǎn)。
  • 較深的焦點深度
    即使焦點深度較深(±50~100μm)造成基板的高低差異或彎曲、或是松弛造成的影像偏移,亦能得到與正確焦點相同的類型剖面圖。尤其是厚膜的乾膠膜,或是阻劑曝光時更為有效。
  • 通過表面臺的高速步進與重復
    利用精密空氣軸承消除摩擦、及通過面馬達構(gòu)造達到活動部的輕量化與高剛性化,實現(xiàn)高速的步進及重復動作。此外,表面臺實施鐳射干擾計的反饋控制,同時達到高速動作與高位置決定精確度。
  • 光罩無損害
    采取光罩與工作非接觸的投影曝光方式,因此不會因為阻劑等的附著造成遮罩損害。非但可防止接線類型缺損,光罩使用可降低運轉(zhuǎn)成本。此外,光罩無須清潔保養(yǎng),與密合型曝光裝置機械相較,還能提高設備運轉(zhuǎn)率。
 
主要用途
  • 增層印刷電路板的曝光
  • 多層類型的重疊曝光
  • 封裝(PKG)
  • 受質(zhì)
  • 電子零件
  • 接線與加工等
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