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納米氧化鈰研拋盤
納米氧化鈰研拋盤是以氧化鈰材料為主，另由數種復合材料構成的，專用于光學及高檔手機玻璃研磨拋光。可替代傳統氧化鈰拋光布及瀝青拋光盤，其特點：不易變形.切削力佳.易修正平面度.壽命長.是常規氧化鈰皮3-4倍的耐用度.標準厚度5-6MM，具有研磨和拋光的雙重功效，在射燈下檢測無任何劃傷，直徑100MM內平面度可達到一個光圈內，粗糙度0.2納米左右，使用時間以12小時/天為計算，預計可以用2-3個月。是國內一家針對光學行業的工藝技術！
| 深圳市納諾斯精密機械技術有限公司 |
| 參考價 | 面議 |
更新時間：2021-05-26 11:33:20瀏覽次數：337
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納米氧化鈰研拋盤
納米氧化鈰研拋盤是以氧化鈰材料為主，另由數種復合材料構成的，專用于光學及高檔手機玻璃研磨拋光。可替代傳統氧化鈰拋光布及瀝青拋光盤，其特點：不易變形.切削力佳.易修正平面度.壽命長.是常規氧化鈰皮3-4倍的耐用度.標準厚度5-6MM，具有研磨和拋光的雙重功效，在射燈下檢測無任何劃傷，直徑100MM內平面度可達到一個光圈內，粗糙度0.2納米左右，使用時間以12小時/天為計算，預計可以用2-3個月。是國內一家針對光學行業的工藝技術！
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