光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、EDA工程、雙工件臺(tái)系統(tǒng)是構(gòu)成光刻機(jī)的四大核心部件。先前我們?cè)陔p工件臺(tái)系統(tǒng)、光源系統(tǒng)中已經(jīng)有所突破，決定邏輯芯片前期技術(shù)開發(fā)的EDA工程軟件系統(tǒng)也被芯和半導(dǎo)體攻破。決定光刻機(jī)制程精度，光刻機(jī)最核心的物鏡系統(tǒng)，近期被長(zhǎng)春光機(jī)所成功拿下。

2021年10月27日消息，報(bào)道：長(zhǎng)春光機(jī)所突破光刻機(jī)核心部件“光學(xué)投影物鏡”制造關(guān)鍵技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了中國(guó)超精密光學(xué)技術(shù)的跨越式發(fā)展。光刻機(jī)的四大核心項(xiàng)目被基本攻堅(jiān)，意味著我們距離擁有自己高精尖光刻機(jī)的那一天已經(jīng)越來越近。

長(zhǎng)春光機(jī)所破冰超精密光學(xué)投影物鏡，具體會(huì)給我國(guó)的光刻機(jī)業(yè)務(wù)帶來怎樣的推動(dòng)作用呢？如何看待長(zhǎng)春光機(jī)的成就呢？首先我們要搞懂“光學(xué)投影物鏡”是什么？

硅基芯片內(nèi)置規(guī)格的有限性與摩爾定律規(guī)定下的性能提升、硅晶體數(shù)量提升之間的矛盾，給光刻機(jī)設(shè)備提出了更高的制程要求。決定光刻機(jī)制程精度的物鏡，其重要性不言而喻。“物競(jìng)天擇，適者生存”光刻分辨率地不斷提高，投影物鏡的結(jié)構(gòu)形式也在不斷調(diào)整。

在經(jīng)歷了一段篩選、演變后；光學(xué)光刻機(jī)采用的投影物鏡結(jié)構(gòu)形式由最初的低分辨率光學(xué)光刻機(jī)全反射型、全折射型、折反射型多種結(jié)構(gòu)的并存時(shí)代，逐步轉(zhuǎn)變成以全折射式結(jié)構(gòu)形式為主流的高分辨率光刻機(jī)時(shí)代。不過對(duì)比全折射式光學(xué)投影物鏡，折反射式結(jié)構(gòu)的物鏡具有更*的光學(xué)性能，之所以沒有代替全折射式結(jié)構(gòu)成為主流，是因?yàn)檎鄯瓷涫浇Y(jié)構(gòu)在光刻機(jī)中應(yīng)用，還需要克服許多的現(xiàn)實(shí)技術(shù)問題。

盡管長(zhǎng)春光機(jī)所并沒有提到“光學(xué)投影物鏡”是折反射式還是全折射式，但從目前的技術(shù)水平出發(fā)，長(zhǎng)春光機(jī)所破冰成功的大概率是全折射式光學(xué)投影鏡頭。目前大多數(shù)光學(xué)光刻機(jī)的物鏡結(jié)構(gòu)采用的都是基于全折射式結(jié)構(gòu)制造的光學(xué)投影鏡頭，即便是ASML也不例外。換句話說，長(zhǎng)春光機(jī)所破冰“光學(xué)投影物鏡”意味著我們?cè)诠鈱W(xué)物鏡領(lǐng)域中，已處于業(yè)界主流水平。

長(zhǎng)春光機(jī)所研發(fā)的“全折射式光學(xué)投影鏡頭”一旦商用，大概率會(huì)是7~5納米理想，14~10納米夠用。這有效緩解了國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體廠商在高精尖制程芯片上的壓力。如果長(zhǎng)春光機(jī)所破冰的是“折反射式光學(xué)投影鏡頭”，那就厲害了，直接是。這并不是夸大，即便是光刻機(jī)鏡頭光潔度做得的德國(guó)蔡司，也無(wú)法克服“式光學(xué)投影鏡頭”的實(shí)際技術(shù)問題。

不論是性能表現(xiàn)的“折反射式光學(xué)投影鏡頭”，還是綜合成本、最貼近半導(dǎo)體企業(yè)發(fā)展實(shí)際的“全折射式光學(xué)投影鏡頭”，長(zhǎng)春光機(jī)所破冰“光學(xué)投影物鏡”，都將推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體芯片代工產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，緩解國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體廠商的燃“芯”之急。當(dāng)然，前提是完成光刻機(jī)各領(lǐng)域技術(shù)的整合、協(xié)調(diào)。

雖說目前我們?cè)诠饪虣C(jī)領(lǐng)域中與國(guó)外之間的差距很大，但比起國(guó)外的光刻機(jī)發(fā)展進(jìn)程，我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域中的進(jìn)展已十分可觀。“人多好辦事、人多辦好事”相信在國(guó)家的正確引導(dǎo)下，ASML光刻機(jī)的神話并不會(huì)持續(xù)很久。祝愿國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體廠商愈發(fā)強(qiáng)大，早日實(shí)現(xiàn)各環(huán)節(jié)技術(shù)的整合，重新奪回半導(dǎo)體發(fā)展的主動(dòng)權(quán)。

對(duì)于長(zhǎng)春光機(jī)所破冰成功的“物鏡系統(tǒng)”，大伙有什么想說的呢？眼下國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體廠商在光源系統(tǒng)（長(zhǎng)春、上海光機(jī)所）、物鏡系統(tǒng)（長(zhǎng)春光機(jī)所、中科院）、EDA（芯和半導(dǎo)體）、雙工件臺(tái)系統(tǒng)（華卓精科）中皆有建樹，你認(rèn)為國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體距離實(shí)現(xiàn)高精尖芯片自給自足目標(biāo)的道路還有多遠(yuǎn)呢？