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沈陽科晶自動化設備有限公司
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高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV

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產品型號

品       牌 沈陽科晶/KEJING

廠商性質生產商

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更新時間:2021-03-15 19:17:49瀏覽次數:323次

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高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV

產品簡介:高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″ )的退火,并采用 10KW的紅外燈進行加熱,升溫速度可達 120/s,配有RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。

 

 

產品型號

高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源

4、工作臺:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1Al2O3纖維鋼構,無需水冷或風冷。

2內爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。

3PID制器,可以設置30段升降溫程序,并設有過熱保護和斷偶功能。

4通過CE認證。

技術參數

1電源:單相208V-240V AC  50Hz/60Hz  10KW

2、石英管:外徑Ø110mm,內徑Ø103mm,長380mm

3、加熱元件:8根紅外燈管,燈絲長200mm,絲圈Ø10mm,燈長300mm

4、加熱區:300mm

5工作溫度:高溫度1100

6控溫精度:±0.5

7、高升溫速度:RT-800℃時為50/s800-1000℃時為10/s

8、溫控儀:可控硅(SCRPID自動控制

9真空法蘭:不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫O型圈密封,長時間在>900℃條件下運行必須采用水 冷,循環水流量為0.5m3/hr

10、真空度:10-2torr(機械泵),10-5torr(分子泵)

11質量流量計:3個,MFC1范圍0-100sccmMFC2范圍0-200sccmMFC3范圍0-500sccm,精度1±%FS

12氣罐:Ø80mm×120mm

產品規格

尺寸:爐體760mm×330mm×530mm,真空混氣系統600mm×600mm×597mm

重量:爐體45kg,真空混氣系統75kg

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