當前位置:沈陽科晶自動化設備有限公司>>化學氣相沉積設備(PECVD等)>> 高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV
產品簡介:高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,高工作溫度可達1200℃,混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導入管式爐內部,本系統(tǒng)極限真空度可達10-5 torr。
產品型號 | 高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV |
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源 4、工作臺:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上 5、通風裝置:需要 |
主要特點 | 1、雙層殼體,配有風冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。 2、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高反射率和保護爐膛潔凈度。 3、采用PID控制器,可以設置30段升降溫程序。 4、質量流量系統(tǒng)采用316不銹鋼制作而成。 5、已通過CE認證。 |
技術參數 | 管式爐 1、電源:AC 220V 50Hz/60Hz 2、石英管:外徑Ø80mm,內徑Ø75mm,長1000mm 3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲(表面涂有氧化鋯) 4、加熱區(qū)域:440mm 5、恒溫區(qū)域:150mm 6、工作溫度:高1200℃,連續(xù)工作1100℃ 7、大升降溫速率:20℃/min 8、控溫精度:±1℃ 9、熱電偶:K型 |
高真空機組 1、殼體:600mm×600mm×700mm,大承重275kg 2、真空泵:德國Pfeiffer真空泵 3、顯示屏:LCD數字顯示 4、抽氣速率:N2-33L/s,He-39L/s,H2-32L/s 5、工作范圍:1000mtorr-10-7mtorr 6、極限:10-8mtorr(無泄漏) | |
質量流量混氣系統(tǒng) 1、電源:單相AC208V-240V 50Hz/60Hz 2、功率:18W 3、尺寸:600mm×600mm×700mm 4、混氣箱:Ø80mm×120mm |
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