當前位置:沈陽科晶自動化設備有限公司>>化學氣相沉積設備(PECVD等)>> 開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV
1700℃兩通道混氣高真空CVD系統GSL-1700X-4-C2HV
1700℃單溫區三通道混氣CVD系統GSL-1700X-F3LV
帶滑動法蘭三溫區CVD系統OTF-1200X-5-III-F3LV
產品簡介:開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統組成,可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體,真空度可達10-2torr。
產品型號 | 開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV |
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源 4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重150kg以上 5、通風裝置:需要 |
主要特點 | 1、雙層殼體,配有循環風冷系統,殼體溫度<60℃。 2、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,同時延長使用壽命。 3、采用PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序。 4、設有超溫及斷偶報警功能。 5、已通過CE認證。 |
技術參數 | 1、電源:AC 220V 50/60Hz 2.5KW 2、石英管:外徑Ø80mm,內徑Ø75mm,長1000mm 3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 4、加熱區域:440mm 5、恒溫區域:150mm 6、工作溫度:高1200℃,連續工作1100℃ 7、大升降溫速率:20℃/min 8、控溫精度:±1℃ 9、真空度:5.5×10-3torr(機械泵),10-4torr(分子泵) 10、泄漏率:<5mtorr/min 11、浮子流量計:3個;10ml/min-100ml/min,16ml/min-160ml/min,25ml/min-250ml/min 12、壓力表:4個 |
產品規格 | 尺寸:管式爐550mm×380mm×520mm,混氣系統600mm×600mm×597mm;重量:60kg |
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