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沈陽科晶自動化設備有限公司
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高真空PECVD系統

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產品型號

品       牌 沈陽科晶/KEJING

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更新時間:2021-03-15 14:46:46瀏覽次數:143次

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高真空PECVD系統

產品簡介:高真空PECVD系統為單室薄膜太陽電池等離子增強化學氣相沉積(PECVD)工藝研發設備,用來在硅片上沉積SiOxSiNx、非晶硅、多晶硅、碳材料等薄膜,鍍膜樣品為156*156mm基片(并向下兼容)。

產品型號

高真空PECVD系統

主要特點

1、系統采用單室方箱式結構,手動前開門;

2、真空室組件及配備零部件全部采用優質不銹鋼材料制造(304),氬弧焊接,表面采用噴玻璃丸+電化學拋光鈍化處理配有可視觀察窗口,并帶擋板,真空尺寸為300mm×300×280mm;

3、采用樣品在下,噴淋頭在上噴淋式進氣方式

4、氣路設有勻氣系統,真空室內設有保證抽氣均勻性抽氣裝置

5、系統設有硅烷尾氣處理系統(高溫裂解方式)。

技術參數

1、停泵關機12小時后真空度:≤5 Pa;

2、樣品加熱高加熱溫度:300℃,溫控精度:±1°C,采用日本進口控溫表進行控溫;

3、噴淋頭尺寸:200×200mm,噴淋頭與樣品之間電極間距20-80mm連續可調,并帶有標尺指數顯示,采用金屬焊接波紋管+進口直線導軌+進口絲杠+進口光軸方式,升降平穩、無抖動,保證了電極與樣品的平行度;

4、 沉積工作真空:13-1300Pa;

5、射頻電源:頻率 13.56MHz,大功率500W,全自動匹配;

6、SiH4、NH3、N2O、N2、H2、Ar 6路氣體,共計使用6個質量流量控制器控制進氣。

標準配件

 

可選配件

 

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