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MiniLab060型PVD綜合鍍膜系統

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更新時間:2020-08-19 14:57:19瀏覽次數:553

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產品簡介

詳細介紹

?產品簡介

MiniLab060是英國MOORFIELD公司一款落地式高性能科研級PVD綜合鍍膜系統,采用模塊化設計,可在一臺儀器上實現電子束蒸發鍍膜,常規電阻熱蒸發鍍膜,低溫熱蒸發系統及磁控濺射鍍膜,可用于鍍金屬膜,有機物薄膜及絕緣材料的單層或者多層功能膜與復合膜,同時該系統還可加載等離子源,刻蝕系統與退火系統,是科研用戶PVD的理想選擇。

?產品特性

? 落地式薄膜沉積系統,模塊化設計

? 可選擇4個DCRF磁控濺射源,用于金屬及絕緣層鍍膜,濺射靶角度連續可調,可獨立/依次/共同濺射

? 可選擇4個電阻熱蒸發源與低溫熱蒸發源,用于金屬及有機物鍍膜

? 可選擇電子束源,用于難熔金屬或者蒸汽壓低的金屬材料

? 大可支持11英寸樣品

? 兼容手套箱

? 可加4路反應氣體,Ar,N2,O2可選配有MFC控制

? 配置高精度真空規進行壓力全自動控制,真空度低至 <5×10-7 mbar

? 配置Inficon SQC-310膜厚測量儀用于薄膜厚度監測

? 操作簡單:通過觸屏或計算機實現全自動操作

? 自定義并可存儲多個recipe

? 操作安全:自帶各種軟硬件互鎖功能

? 售后維護簡單

? 樣品臺:可加熱(800℃),冷卻,旋轉,升降,偏壓,行星式襯底夾具

? 可選配預真空鎖,實現高真空環境下的樣品傳遞

? 可選配離子源:用于樣品預清洗及納米表面改性

? 可選配高溫退火系統

?典型結構

? 難熔金屬蒸鍍:配置多坩堝電子束源

? 金屬薄膜與絕緣層蒸鍍:配置4個磁控濺射源

? 金屬薄膜蒸鍍:配置4個電阻高溫熱蒸發源

? 有機薄膜與金屬薄膜同時蒸鍍:配置2個電阻高溫熱蒸發源與2個LTE低溫熱蒸發源

?應用

該系統用于半導體材料、OLED實驗研究及有機太陽能薄膜電池實驗研究。廣泛應用于高校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

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