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微納(香港)科技有限公司>>>>CB500型微納米力學(xué)綜合測試系統(tǒng)

CB500型微納米力學(xué)綜合測試系統(tǒng)

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更新時間:2020-08-19 14:06:11瀏覽次數(shù):318

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產(chǎn)品簡介

詳細(xì)介紹

  • 產(chǎn)品簡介:

    CB500是美國NANOVEA公司推出的一款低價(jià)格微納米力學(xué)綜合測試系統(tǒng),該系統(tǒng)聚納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米壓痕儀四個功能模塊于一身,這款儀器采用模塊化設(shè)計(jì),可在一款儀器下實(shí)現(xiàn)納米與微米/大載荷三個尺度下的壓痕,劃痕與摩擦磨損測試,進(jìn)而可得到硬度、彈性模量、蠕變信息、彈塑性、斷裂韌度、應(yīng)力-應(yīng)變曲線、膜基結(jié)合力、劃痕硬度、摩擦系數(shù)、磨損率等微觀力學(xué)數(shù)據(jù)。

  • 產(chǎn)品特性:

    - 模塊化設(shè)計(jì):可在一臺儀器集成納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米劃痕儀4款儀器。

- 壓痕測試*符合ISO14577與美國ASTM E2546標(biāo)準(zhǔn),劃痕測試*符合ISO 20502、1518、ASTM

D7027、D1624、D7187、C171標(biāo)準(zhǔn)。

- 載荷加載系統(tǒng):采用閉環(huán)載荷加載垂直加載,準(zhǔn)確性遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的開環(huán)載荷加載技術(shù)及懸臂加載技術(shù),可保證施加載荷的精準(zhǔn)性。

- 載荷驅(qū)動方式:高精度壓電陶瓷驅(qū)動,精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于電磁力驅(qū)動。

- NANOVEA技術(shù)(號:EP0663068 A1 1995)高精度電容式傳感器來能夠保證系統(tǒng)夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測量可保證壓入深度與劃入深度實(shí)時測量。

- 采用encoder高精度光柵尺樣品臺,定位精度可達(dá)250nm以內(nèi)。

- *的熱飄逸控制技術(shù):納米壓痕儀的熱飄逸為<0.05nm/s,同時通過專業(yè)的硬度測試軟件,利用熱飄逸補(bǔ)償技術(shù)可將熱飄逸總量控制在1nm以內(nèi);另外,儀器采用立式結(jié)構(gòu),電子單元在左右兩邊,熱量往上漂不會對電子單元產(chǎn)生影響,從而得到非常小的熱漂移。

- 劃痕具有全景成像模式

- NANOVEA公司金剛石面積函數(shù)校準(zhǔn)技術(shù)(號:No. 3076153)只需要壓一次就可以對針尖面積函數(shù)進(jìn)行校準(zhǔn)實(shí)現(xiàn)精確測量!!!

  • 主要技術(shù)參數(shù):


    1)納米壓痕儀:

    靜態(tài)加載模式大加載載荷:80mN /400mN/1800mN/4800mN

    動態(tài)加載模式DMA:0.1-100Hz

    載荷分辨率:3nN

    可實(shí)現(xiàn)的小載荷:0.1mN

    加載速率:0.04-12000mN/min

    大壓入深度(電容傳感器): 250μm/1mm

    位移分辨率:0.0003nm

    快速壓痕功能:做100mapping點(diǎn)只需5分鐘

    熱飄逸<0.05nm/s(室溫條件下)

    2)納米劃痕儀:

    劃痕正向力大載荷:80mN /400mN/1800mN/4800mN

    載荷分辨率:3nN

    劃痕正向力小載荷:0.1mN

    大劃痕深度:250μm/1mm

    大劃痕長度:50mm

    劃痕速度:0.05-600mm/min

    位移分辨率:0.0003nm

    大深度:250μm/1mm

    深度分辨率:0.0003nm

    大摩擦力:400mN/1800mN

    摩擦力分辨率:7μN(yùn)

    3)微米壓痕儀:

    大加載載荷:40N/200N

載荷分辨率:2.4μN(yùn) /12μN(yùn)

載荷噪聲水平(RMS):0.1mN/0.5mN

可實(shí)現(xiàn)的小載荷:2mN/10mN

加載速率:0.01-500N/min / 0.05-1000N/min

快速壓痕功能:做100mapping點(diǎn)只需12分鐘

深度范圍(電容式傳感器):1mm

深度分辨率:0.01nm

深度分噪聲水平(RMS: 0.5nm

4)微米劃痕儀:

劃痕正向力大載荷:40N/200 N

劃痕正向力小載荷:2mN/10mN

大劃痕深度:1mm

深度分辨率:0.01nm

深度分噪聲水平(RMS: 0.5nm

大劃痕長度:50mm

劃痕速度:0.1-1200mm/min

大摩擦力:20N/200N

摩擦力分辨率:1.3mN/13mN

5)精密定位平臺:

— XY方向移動范圍:100mm*50mm

Z方向允許的大樣品空間150mm

工作臺XY方向定位分辨率:10nm

工作臺XY方向定位精度:250nm

— Z方向可自動移動移動范圍:50mm

6)光學(xué)金相顯微鏡成像系統(tǒng):

物鏡的放大倍率分別為:5X10X20X50X1000X

總的放大倍率分別為:400X800X1600X4000X8000X

7)原子力顯微鏡AFM的技術(shù)參數(shù)(高分辨率):

— XYZ方向大掃描范圍:100μm *100μm *12μm

— XY方向移動分辨率:0.1nm

— Z方向的測量分辨率:0.02nm

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