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北京金源新材科技有限公司
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暫無信息 |
| 產地 | 國產 | 純度 | 99.9% |
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名稱： 高純鋯靶材 鋯顆粒 二氧化鋯 金屬濺射靶材
純度： 99.95%
尺寸： φ50.8*3，φ76.2*3 可定制
品牌： 金源新材
優勢： 純度高，導電性能好
用途： 磁控濺射鍍膜
工藝： 熔煉
包裝： 真空包裝
優勢：純度高，導電性能好
用途：磁控濺射鍍膜
工藝：熔煉
產品信息
名稱： 高純鋯靶材 鋯顆粒 二氧化鋯 金屬濺射靶材
純度： 99.95%
尺寸： φ50.8*3，φ76.2*3 可定制
品牌： 金源新材
優勢： 純度高，導電性能好
用途： 磁控濺射鍍膜
工藝： 熔煉
包裝： 真空包裝
交貨期：現貨，訂制商品10個工作日
運輸：順豐快遞
起訂量：1片
高純鋯靶材 鋯顆粒 二氧化鋯 金屬濺射靶材
北京金源新材新材提供的金屬靶材按照生產工藝分為熔煉鑄造法和粉末冶金法兩種：
金屬靶材如鋁、銅、鐵、鎳等均采用熔煉鑄造工藝，以高純金屬為原料，通過熔煉、鍛造、熱處理和精密機械加工而成；產品優勢：純度高，晶粒尺寸小而均勻，表面平整。
難熔金屬靶材如鎢、鉬、鉭、鈮、鉻等均采用粉末冶金工藝，以高純超細粉末為原料，通過熱等靜壓等工藝加工成坯，軋制熱處理，精密機加工后制成靶材；產品優勢：靶材孔隙率低，相對密度高，結構均勻。
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