等離子清洗機代工商等離子清洗機清洗原理：

等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一

些特殊的情況下有第四種狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存

在下列物質：處于高速運動狀態的電子；處于激活狀態的中性原子、分子、原子團（自

由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性

狀態。
在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，

通過等離子體轟擊被清洗產品表面．以達到清洗目的．
等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表

面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為

等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子

；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面

等離子清洗機代工商等離子清洗機清洗原理：

等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在，但在一

些特殊的情況下有第四種狀態存在，如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存

在下列物質：處于高速運動狀態的電子；處于激活狀態的中性原子、分子、原子團（自

由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性

狀態。
在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，

通過等離子體轟擊被清洗產品表面．以達到清洗目的．
等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表

面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為

等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子

；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面