純凈水設備典型工藝流程簡介：

1．預處理→一級反滲透→二級反滲透→純水箱→純水泵→用水點

（產水電阻率大于0.5 MΩ.cm）

2． 預處理→反滲透→純化水箱→離子交換器→純水泵→用水點 

（產水電阻率大于10 MΩ.cm）

3．預處理→一級反滲透→二級反滲透→EDI裝置→純化水箱→純水泵→用水點

（產水電阻率大于15 MΩ.cm）

4．預處理→一級反滲透裝置→二級反滲透裝置→中間水箱→紫外除T0C裝置→脫

氣裝置→EDI裝置→紫外除T0C裝置→脫氣裝置→氮封純水箱→雙級拋光混床→終

端超濾裝置→用水點（產水電阻率大于18 MΩ.cm）

應用領域:

電子工業用水　　　 集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水

制藥行業用水　　　 制藥行業  輸液、針劑、片劑、生化制品、設備清洗等

化工行業工藝用水　 化工循環水、化工產品制造等

電力行業　　　　　 鍋爐補給水 　火力發電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統等

食品工業用水　　　 飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等

海水、苦咸水淡化　 海島、艦船、海上鉆井平臺、苦咸水地區等

飲用純凈水　　　　 房產物業、社區、企事業單位等

超聲波清洗用水　　 電腦配件、特種材料、精密機械等行業的超聲波清洗線

電鍍行業用水　　　 清洗工件用水,槽液用水

其它工藝用水　　　 汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細化學品等