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天津福業動力機械科技發展有限公司

 鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的惟一源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內變動。例如，當溫度在45～50℃，陰極電流密度10A/dm2時，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內變動，甚至達800g/L時，均可獲得光亮鍍鉻層。但這并不表示鉻酐濃度可以隨意改變，一般生產中采用的鉻酐濃度為150～400g/L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導率起決定作用，在每一個溫度下有一個相應于電導率的鉻酐濃度；鍍液溫度升，電導率大值隨鉻酐濃度增加向稍的方向移動。因此，單就電導率而言，宜采用鉻酐濃度較的鍍鉻液。但采用濃度鉻酸電解液時，由于隨工件帶出損失嚴重，一方面造成材料的無謂消耗，同時還對環境造成一定的污染。而低濃度鍍液對雜質金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。鉻酐濃度過或過低將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。含鉻酐濃度低的鍍液電流，多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關，主要的取決于鉻酐比值

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 除根外，氟化物、氟硅酸鹽、氟硼酸鹽以及這些陰離子的混合物常常作為鍍鉻的催化劑。當催化劑含量過低時，得不到鍍層或得到的鍍層很少，主要是棕色氧化物。若催化劑過量時，會造成覆蓋能力差、電流效率下降，并可能導致局部或沒有鍍層。較的催化劑為。的含量取決于鉻酐與的比值，一般控制在80～100：1，值為100：1。當根含量過時，對膠體膜的溶解作用，基體露出的面積大，電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻，有時發花，特別是凹處還可能露出基體金屬。