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詳細介紹
該設備主要適用于半導體硅片、磁性材料、藍寶石、光學玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的雙面高精度高效率的拋光加工。
主要特點：
1、 該機采用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內齒圈；PLC調整設定控制；文本顯示。
2、 高精密的氣動控制系統確保了工件壓力的準確性。
3、 主要運動副采用了強制集中潤滑。
4、 拋光液系統具有獨立攪拌、循環水冷卻功能。
主要參數及加工能力：
1、 拋光拖動電機：5.5KW 380V 1440rpm。
2、 太陽輪拖動電機：1.5KW 380V 1440rpm。
3、 上拋盤規格：φ570mm×φ170mm×30mm。
4、 下拋盤規格：φ570mm×φ170mm×30mm。
5、 游輪參數：公制Z=117 M=2。
6、 游輪數量：4片。
7、 粗糙度：Rz0.3~Rz0.6
8、 zui大拋光直徑：160mm。
9、 下拋盤轉速范圍：0—50rpm。
10、 需配備空氣源壓力：0.5—0.6Mpa
11、 下拋盤的端面跳動量：≤0.04mm。
12、 下拋盤的平面度：0.015 mm。
13、 設備外形尺寸：（長×寬×高）1400mm×1200mm×2400mm。
14、 重量： 約2800kg。
1、 該機采用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內齒圈；PLC調整設定控制；文本顯示。
2、 高精密的氣動控制系統確保了工件壓力的準確性。
3、 主要運動副采用了強制集中潤滑。
4、 拋光液系統具有獨立攪拌、循環水冷卻功能。
主要參數及加工能力：
1、 拋光拖動電機：5.5KW 380V 1440rpm。
2、 太陽輪拖動電機：1.5KW 380V 1440rpm。
3、 上拋盤規格：φ570mm×φ170mm×30mm。
4、 下拋盤規格：φ570mm×φ170mm×30mm。
5、 游輪參數：公制Z=117 M=2。
6、 游輪數量：4片。
7、 粗糙度：Rz0.3~Rz0.6
8、 zui大拋光直徑：160mm。
9、 下拋盤轉速范圍：0—50rpm。
10、 需配備空氣源壓力：0.5—0.6Mpa
11、 下拋盤的端面跳動量：≤0.04mm。
12、 下拋盤的平面度：0.015 mm。
13、 設備外形尺寸：（長×寬×高）1400mm×1200mm×2400mm。
14、 重量： 約2800kg。
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