顯微鏡圖像分析系統，給電子半導體污染度評估帶來全新視覺角度分析——電子半導體圖像法污染物分析檢測儀PLD-MPCS2.0
電子半導體圖像法污染物分析檢測儀為一種圖像法粒度分布測試以及顆粒型貌分析等多功能顆粒分析系統，該系統包括光學顯微鏡、圖像測試 CCD 攝像頭、三維立體載物平臺、圖像法顆粒分析系統軟件、電腦、打印機等部分組成；為科研、生產領域增添了一種新的粒度測試手段。
產品優勢：
測試軟件具有審計追蹤、權限管控、電子記錄、測試標準、計量驗證、報告模板、圖像存儲、顆粒追蹤、報告輸出、清潔度分析等功能；
全面自動標準選擇、顆粒尺寸設定、顆粒計數，或按用戶設定范圍計數，自動顯示分析結果，并按照相關標準確定產品等級；
將傳統的顯微測量方法與現代的圖像處理技術結合的產物；
軟件控制分析過程，手動對焦，手動光強（顆粒清潔度測試必須人為干預進行），自動掃描，自動攝入，自動分析；
數字攝像機將顯微鏡的圖像拍攝及掃描；全自動膜片掃描系統，無縫拼接，數字化顯微鏡分析系統；
R232接口數據傳輸方式將顆粒圖像傳輸到分析系統；
顆粒圖像分析軟件及平臺對圖像進行處理與分析；
引入3D遙感三維調控技術，快速定位，快速聚焦，體驗極速無卡頓測試。
顯示器及打印機輸出分析結果；
直觀、形象、準確、測試范圍寬以及自動識別、自動統計、自動標定等特點；
避免激光法的產品缺陷，擴展檢測范圍；
現實NAS、ISO等標準方法的認可；
提供行業*的“OIL17服務星”簽約式服務；
產品應用：
航空、航天、電力、石油、化工、交通、港口、冶金、機械、汽車制造、制冷、電子、半導體、工程機械、液壓系統等領域；
對各類固體粉末、各類液體中的固體顆粒（非連續相測試）。
執行標準：
0.1~3000μm的超寬范圍、超高分辨率。
可根據客戶要求，植入相應“圖像法顆粒度”測試和評判標準。
技術參數：
產品型號：PLD-MPCS2.0
訂制要求：各類液體檢測要求；
測試范圍: 1μm-500μm
放大倍數：40X～l000X倍
zui大分辨：0.1μm
顯微鏡誤差：0.02（不包含樣品制備因素造成的誤差）
重復性誤差：< 5%（不包含樣品制備因素造成的誤差）
數字攝像頭(CCD)：500萬~1800萬像素
分析項目：粒度分布、長徑比分布、圓形度分布等
自動分割速度：< 1秒
分割成功率：> 93%
軟件運行環境：Windows 10
接口方式：RS232或USB方式
精 確 度：<±3% 典型值；
重合精度：10000粒/mL（5%重合誤差）；
分 辨 率：>95%
售后服務：普洛帝中國服務中心/普研檢測。
