【機床商務(wù)網(wǎng)欄目 國內(nèi)新聞】近日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥爾(ASML)宣布，或?qū)⑼七t向中國半導(dǎo)體制造商交付極紫外光光刻機(EUV)。該公司發(fā)言人表示，此決定是因為出口許可證到期，目前正在向荷蘭政府申請新的許可證。
 

　　作為極紫外光刻芯片工具(EUV)的供應(yīng)商，延遲發(fā)貨將對中國芯片制造造成重擊。而此次受到影響的中國公司，疑為中芯(SMIC)。
 

　　日經(jīng)新聞援引消息人士的話稱，ASML成為美國政府的“犧牲品”，“延遲發(fā)貨”的一大原因來自于美國政府的壓力。
 

　　對此，ASML在7日回應(yīng)，指出公司正在申請許可證，但日經(jīng)新聞所述“延遲出貨”僅為其媒體推測，ASML對此事從未評論或確認。
 

　　中芯也就此事回應(yīng)稱，公司的EUV還處于“紙面工作”階段，尚未進行相關(guān)活動。中芯強調(diào)，目前，公司的先進工藝研發(fā)進展順利，研發(fā)與生產(chǎn)的連接一切正常，客戶與設(shè)備導(dǎo)入均正常運作。
 

　　盡管中芯已經(jīng)澄清發(fā)文澄清，但是鑒于中興的前車之鑒，光刻機作為芯片制造的必需設(shè)備，如果真的斷供我們國家是否有補救措施呢？中國的光刻機技術(shù)又是否能代替國外呢？
 

　　ASML光刻機有多厲害？
 

　　光刻機，被稱為現(xiàn)代光學工業(yè)之花，制造難度非常大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。其售價高達7000萬美金。用于生產(chǎn)芯片的光刻機是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的光刻機完全依賴進口。
 

　　在能夠制造機器的這幾家公司中，尤其以荷蘭(ASML)技術(shù)為先進。價格也為高昂。光刻機的技術(shù)門檻極高，堪稱人類智慧集大成的產(chǎn)物。
 

　　光刻機跟照相機差不多，它的底片，是涂滿光敏膠的硅片。電路圖案經(jīng)光刻機，縮微投射到底片，蝕刻掉一部分膠，露出硅面做化學處理。制造芯片，要重復(fù)幾十遍這個過程。位于光刻機中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯(lián)組成。鏡片得高純度透光材料+高質(zhì)量拋光。SMEE光刻機使用的鏡片，得數(shù)萬美元一塊。ASML的鏡片是蔡司技術(shù)打底。鏡片材質(zhì)做到均勻，需幾十年到上百年技術(shù)積淀。
 

　　另外，光刻機需要體積小，但功率高而穩(wěn)定的光源。ASML的光刻機，使用波長短的極紫外光，光學系統(tǒng)極復(fù)雜。有的鏡頭和光源，沒的機械精度，也是白搭。光刻機里有兩個同步運動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下。兩個工作臺由靜到動，加速度跟導(dǎo)彈發(fā)射差不多。賀榮明說：“相當于兩架大飛機從起飛到降落，始終齊頭并進。一架飛機上伸出一把刀，在另一架飛機的米粒上刻字，不能刻壞了。”而且，溫濕度和空氣壓力變化會影響對焦。“機器內(nèi)部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，的測溫傳感器。”賀榮明說。SMEE好的光刻機，包含13個分系統(tǒng)，3萬個機械件，200多個傳感器，每一個都要穩(wěn)定。像歐洲杯決賽，任何一個人發(fā)揮失常就要輸球。
 

　　目前，只有一家企業(yè)在光刻機市場上占據(jù)了80%的份額，就是處于荷蘭的ASML，旗下所研發(fā)的EUV光刻機曾售價高達1億美元一臺，而且還不一定有貨。皆因每臺光刻機的裝配大約需要50000個零件左右。上的芯片制造商如Intel、臺積電、三星都是它名下的股東。
 

　　中國光刻機技術(shù)和ASML的差距有多大？
 

　　目前，中國的光刻機技術(shù)和ASML相比，至少有10年以上的差距，短時間內(nèi)很難追上。
 

　　在光刻機領(lǐng)域，有人根據(jù)ASML的技術(shù)并結(jié)合芯片制造，分為四個檔次，分別是超，，中端，低檔。分別對應(yīng)的節(jié)點分別5/7nm工藝、7-28nm工藝、28-65nm工藝，65-90nm工藝。目前ASML的產(chǎn)品覆蓋所有檔次，而nikon的產(chǎn)品停留在28nm這個節(jié)點，cannon和smee(上海微電子)停留在90nm這個節(jié)點。
 

　　是的，中國的高技術(shù)是90nm，生產(chǎn)出來的光刻機處于低端，只能生產(chǎn)90nm的芯片，而在90nm之后，還有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。而這些節(jié)點技術(shù)，有好幾個臺階要上，首先是45nm的臺階，再到22nm的臺階，再到10nm臺階，再到7nm的臺階，真的是一步一個坎，有些坎幾年都未必能夠更新出一代來。
 

　　所以說，從目前的這個情況來看，國產(chǎn)光刻機技術(shù)落后ASML至少是10年以上。也就是說，如果真的斷供，“卡脖子”的事情極有可能發(fā)生。
 

　　(資料來源觀察者網(wǎng)、金屬加工、鐵流等)