晶片規格:
2-8〞單、雙cassette
主要材料:
金屬骨架+PP/PVC殼體,槽體材質PP/PVDF/PTFE/石英
工藝槽功能:
加熱冷卻+旋轉
基礎工藝流程:
KOH→HQDR KOH→QDR H2SO4→QDR
設備類型:
手動/半自動(定制)
Footprint : 2000 (W) x 1400 (D) x 2000(H) mm(非標)
刻蝕工藝是選擇性地從晶圓表面去除不需要的材料以達到集成電路芯片制造要求的工藝過程。
蘇州清芯卓半導體設備有限公司成立于2017年03月17日,注冊地位于蘇州市相城區渭塘鎮鳳南路99號1棟1樓B區,法定代表人為馬紅方。經營范圍包括研發、銷售:半導體、集成電路設備、清洗設備、真空設備、太陽能光伏設備、電子配件、五金配件、機械配件;以及設備的維修;自營和代理各類商品和技術的進出口業務(國家限定企業經營或禁止進出口的商品和技術除外)。(依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動) 一般項目:半導體器件專用設備制造;通用設備制造(不含特種設備制造);光電子器件制造;電子專用設備制造(除依法須經批準的項目外,憑營業執照依法自主開展經營活動)主營產品有晶圓清洗機,芯片清洗機,刻蝕設備,去膠設備,顯影設備致力于實驗室研發級到全自動大批量生產級的客制化濕制程設備,單片清洗刻蝕設備,化學品/研磨液供應系統等,我們的模塊化設計方案具備各種標準功能,服務于設計各種特殊模塊以滿足客戶需求,提供高性價比的濕法一站式解決方案。
產地 | 國產 |
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晶片規格:
2-8〞單、雙cassette
主要材料:
金屬骨架+PP/PVC殼體,槽體材質PP/PVDF/PTFE/石英
工藝槽功能:
加熱冷卻+旋轉
基礎工藝流程:
KOH→HQDR KOH→QDR H2SO4→QDR
設備類型:
手動/半自動(定制)
Footprint : 2000 (W) x 1400 (D) x 2000(H) mm(非標)
刻蝕工藝是選擇性地從晶圓表面去除不需要的材料以達到集成電路芯片制造要求的工藝過程。
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