半導體超純水設備 芯片清洗設備

EDI超純水設備是當前生產工業用超純水的可靠產品，經過了研究人員的大量實驗和實踐檢驗，能穩定連續進行超純水生產，出水電阻率能達到16 MΩ*cm(25℃)。該設備采用了“雙級反滲透+EDI技術”的處理工藝，具有產水速度快、無污染、不易結垢堵塞、自動化強的特點。

反滲透技術是指利用反滲透膜強大的離子透過能力，對超純水中含有的有機物、金屬離子、微生物、礦物質等進行過濾去除。經過兩次反滲透膜過濾后的超純水成分中基本只含有氫原子和氧原子兩種成分。這個過濾過程中不需要化學反應試劑，在物理條件下就能進行，因而能耗低、投資成本小。

半導體超純水設備 芯片清洗設備

EDI技術是實現超純水深度脫鹽的處理技術，它的進水一般是水質好的二級反滲透產水，經過EDI技術脫鹽后產生的濃水水質比一級反滲透產水水質更好，可以回流到一級反滲透產水箱繼續進行下一步處理。EDI階段的處理過程中不會產生酸堿廢液，能為企業避免對酸堿廢液進行中和反應處理的麻煩，避免了污染，也提高了超純水生產效率。

EDI超純水設備運行連續穩定，無須在生產中更換樹脂，還能實現自動化作業節約人工成本。該設備嚴格執行國家環保政策，出水質量穩定達標、可靠性強。將其生產出的超純水應用在工業中，可以用來清洗硅晶圓、液晶顯示器、發光二極管、光纖等工業產品，能避免對這些產品造成污染影響質量。

此外，超純水在化妝品生產、食品飲料生產、生物實驗、化學實驗中也有很高應用價值，其純度高、無菌、無污染，在生產中的影響幾乎可以忽略不計，經濟價值很高。