TJ3/4/5/6英寸硬掩膜激光切割柔性掩膜版非標加工來圖來樣
華諾激光專業定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用，也適合于工廠批量生產，掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等真空鍍膜設備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產品，具體價格需要發圖紙確認后，才能正式報價。
掩膜版的應用
每個芯片上的實際電路結構是用掩模版和光刻技術制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預先噴到半導體表面。
掩模和光刻工藝是很關鍵的，因為他們決定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來對光刻膠進行曝光 。
掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質量。在投影式光刻機中，掩模版作為一個光學元件位于會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍（現代光刻機一般都是縮小4倍）后投射在晶圓表面。為了區別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱為倍縮式掩模（reticle） 。
