光刻晶圓溫度測量系統 真空腔體溫度監控

光刻是什么？

光刻是一種*的微電子制造工藝，旨在制造微小而復雜的芯片結構，它在現代科技領域中具有重要地位。它通過使用光線將設計好的圖案投射到半導體材料表面，從而在微米或甚至納米尺度上創造出各種電子元件和微結構。

光刻技術是一種將芯片設計通過光刻膠（光刻膠是一種光敏材料）投影到硅片上的制造過程。在光刻過程中，光刻膠的曝光和固化受到溫度的影響。

如果晶圓溫度不穩定，可能會導致以下問題：

尺寸偏差： 溫度變化會影響光刻膠的固化速率，從而導致芯片元件尺寸偏離設計要求。

對準誤差： 光刻膠的膨脹和收縮與溫度變化有關，不穩定的溫度可能會導致不良的芯片對準，影響電路性能。

產量下降： 溫度不穩定可能會導致光刻過程的變異，進而影響芯片的良品率和產量。

智測電子TC-WAFER光刻晶圓溫度測量系統應用于光刻晶圓，測量精度可達mk級別，可以多區測量晶圓特定位置的溫度真實值，也可以精準描繪晶圓整體的溫度分布情況，還可以監控半導體設備控溫過程中晶圓發生的溫度變化，了解升溫、降溫以及恒溫過程中設備的有效性。

智測電子還提供整個實驗室過程的有線溫度計量，保證溫度傳感器的長期測量精度。

合肥智測電子致力于高精度溫測、溫控設備的生產和研發定制，為半導體設備提供可靠的國產解決方案。

光刻晶圓溫度測量系統 真空腔體溫度監控