隨著半導體、電子行業的技術發展，對水處理設備的需求也越來越廣泛，國內外超純水設備的技術也獲得了飛速的發展和廣泛的應用，涌現出一大批超純水處理方面領域的公司企業，。目前國內的超純水制備行業正處于快速的發展階段，但是相比國外的發展水平仍有很大的差距。隨著國內半導體生產線的普及，超純水制備設備的需求越來越大，目前國內的現代超純水水質以電阻率、TOC（總有機碳）、細菌、微粒、DO（溶解氧）、可溶硅、離子和金屬雜質等參數來表征，它們對器件影響大。因此，這就需要設計一臺能夠制備滿足指標要求的浸沒液超純水處理系統，以保證光刻機的正常運行。超純水處理系統是制備超純水的自動控制系統，在光刻機中它作為浸沒控制系統中的子模塊，主要負責對超純水的制備，對超純水污染物質進行處理，并達到浸沒供給液各項指標要求。

超純水設備

EDI超純水設備工作原理：

EDI工作原理如圖所示。EDI膜塊中將一定數量的EDI單元用格板隔開，形成濃水室和淡水室。又在單元兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別透過陰陽離子交換膜遷移到濃水室而在淡水室中去除。如下圖：

電場使進水中的水分子在離子交換樹脂界面離解成H+及OH-，并不斷地再生淡水室中陰、陽離子交換樹脂。離子交換樹脂中的陰、陽離子在再生過程中受到相應正負電極的吸引，透過陽、陰離子交換樹脂向所對應的離子膜的方向遷移。當這些離子透過交換膜進入濃室后，H+及OH-重新結合成水。這種H+及OH-的產生、湮滅及陰、陽離子遷移正是離子交換樹脂得以實現連續再生的機理。

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