一、產品名稱概述：江蘇思峻光催化劑研磨分散機膠體磨
二、光催化劑的簡介
通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思，光觸媒顧名思義就是光催化劑。
催化劑是改變化學反應速率的化學物質，其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發下能夠起到催化作用的化學物質的統稱。
三、光催化劑材料的種類
世界上能作為光觸媒的材料眾多，包括二氧化太,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯，硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體，其中二氧化太因其氧化能力強，化學性質穩定無毒，成為世界上當紅的納米光觸媒材料；在早期，也曾經較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料，但是由于這兩者的化學性質不穩定，會在光催化的同時發生光溶解，溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性，故發達國家目前已經很少將它們用作為民用光催化材料，部分工業光催化領域還在使用。
二氧化太是一種半導體，分別具有銳鈦礦，金紅石及板鈦礦三種晶體結構，其中只有銳鈦礦結構和金紅石結構具有光催化特性。
四、光催化原理
因為生產光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料，因此光催化又稱為半導體光催化。
光催化氧化的機理是用固體能帶理論來解釋的；根據固體能帶理論，固體材料的能帶結構可以分為價帶、禁帶和導帶三部分；導體的導帶和價帶發生了重合即其禁帶寬度為零，所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價帶的電子很難被激發使其躍遷至導帶，所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間，所以其在一定條件下可以導電。 在半導體中，所有價電子所處的能帶就是所謂的價帶，比價帶能量更高的能帶便是導帶，介于價帶和導帶之間的空隙稱之為禁帶。
光催化氧化過程簡單的說就是價帶上的電子受到光照的激發躍遷至導帶，形成了電子和空穴，形成的電子-空穴對又引發了其他的一系列的反應。
五、光催化劑材料的分散
光催化材料應用中，一般需要將二氧化太分散到液體基料中，形成懸浮液，需要對光催化劑體系進行研磨分散，使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程，這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用，使得光催化劑產品更穩定；結合多家客戶案例，推薦使用江蘇思峻GMSD2000系列超高速研磨分散機，兩級結構，先研磨后分散，轉速0-18000rpm，研磨分散效果好，粒徑小，均勻度高。
六、光催化材料分散機的特點
1、光催化材料分散設備采用江蘇江蘇磚利技術，*創意，融化理念。將高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。
2、GMSD2000系列全系采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續運行。而傳統分散機很難做到連續、不間斷、長時間的運行，傳統設備的軸承不能承受高轉速的運行，通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供強勁切割力。
3、 GMSD2000系列光觸媒研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
弟一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
七、江蘇思峻光催化劑研磨分散機膠體磨參數/選型表：
型號規格 流量（H2O） 轉速（r/min） 線速度（m/s） 功率（kw） 進出口尺寸
GMSD2000/4 300-1000 14000 44 2.2 DN25/15
GMSD2000/5 1000-1500 10500 44 7.5 DN40 /32
GMSD2000/10 3000 7300 44 15 DN50 / 50
GMSD2000/20 8000 4900 44 37 DN80 /65
GMSD2000/30 20000 2850 44 75 DN150 /125
GMSD2000/50 40000 2000 44 160 DN200 /150
