光學(xué)頻率合成器——光頻梳
EFO-COMB是一種高精度的光學(xué)頻率合成器，設(shè)計用于多項研究和工業(yè)應(yīng)用，如原子激光冷卻，超精密長度測量，光學(xué)時鐘，，學(xué)，超穩(wěn)定微波發(fā)生器，頻率參考信號和時間戳的光學(xué)傳輸，紅外光譜等。
該光學(xué)合成器單元是一個交鑰匙裝置，包括一個摻鉺鎖模激光器，該激光器具有穩(wěn)定的脈沖重復(fù)頻率和載波包絡(luò)偏置Fceo。梳狀發(fā)電機(jī)可以設(shè)計成參考射頻參考源(在1秒時提供5*10^-13的傳輸穩(wěn)定性)，以及光學(xué)參考系統(tǒng)(在1秒時下降到~1*10^-16)。
該系統(tǒng)有一個內(nèi)置的譜發(fā)生器和一個用于穩(wěn)定Fceo的f-2f。該標(biāo)準(zhǔn)單元具有4個低功耗光纖耦合輸出(約1560nm)，適用于各種應(yīng)用和各種可選功能的連接。全布局，確保交鑰匙不間斷運(yùn)行。一個獨(dú)立的控制機(jī)架包含了單元、鎖相環(huán)單元、數(shù)據(jù)采集和顯示系統(tǒng)。
光學(xué)頻率合成器可以集成以下功能：
穩(wěn)定的超連續(xù)光譜梳在1000-2200nm范圍，高達(dá)200mW
穩(wěn)定的超連續(xù)光譜梳在500-1000nm范圍，高達(dá)80mW
單獨(dú)的窄帶輸出(s)與Δλ~ 2…5nm，在500-1000納米和1000-2200nm范圍內(nèi)的任何地方
高功率輸出1560nm，高達(dá)250mW, Frep和Fceo穩(wěn)定
高功率輸出在780nm，高達(dá)100mW，F(xiàn)rep和Fceo穩(wěn)定
拍頻檢測單元(BDUs)在梳狀發(fā)生器的光頻和外部連續(xù)波激光器之間提供射頻拍頻信號
鎖相環(huán)單元，用于穩(wěn)定外部連續(xù)波激光器到梳狀發(fā)生器的光學(xué)頻率
頻率范圍為10MHz到10GHz的超穩(wěn)射頻輸出
差分頻率發(fā)生器(DFG)(如3400 nm)
產(chǎn)品規(guī)格：
| EFO-COMB | |
| Comb spacing (Frep) | 100 MHz |
| Stability with connection to an RF reference | <5·10^-13 at 1="" s or="" same="" as=""> |
| Stability with connection to an optical reference | <1·10^-16 at 1="" s or="" same="" as=""> |
| Tuning range of comb spacing | >0.7 MHz |
| Tuning range of offset frequency Fceo | >100 MHz |
| Optical outputs | 2 or 4 fiber-coupled output ports or collimated free-space outputs at 1560 nm, 520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request (optional) |
| Central wavelength (fixed) | 1560±10 nm |
| Full spectral coverage (with additional options) | 520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request |
| Output power | >5 mW from each output; >250 mW @ 1560 nm (optional); >200 mW @1000-2200 nm (optional); >80 mW @ 520-1000 nm (optional) |
| Optical unit dimensions (L x W x H) | 356 x 492 x 110 mm |
| Control rack dimensions (W x L) | 640 x 553 mm (rack height depends on exact configuration) |
應(yīng)用領(lǐng)域：
超連續(xù)譜產(chǎn)生
光頻計量
光學(xué)
光學(xué)時鐘和時間標(biāo)準(zhǔn)
同步和定時
尺寸度量
