產(chǎn)品簡介
- CC800/9系列
此系列採用的濺射技術(shù)又稱為冷蒸發(fā)或陰極濺射，是一種等離子技術(shù)，通過使用惰性氣體離在磁場中向靶材方向加速後轟擊靶材，將靶材材料濺射出來。由於該過程與靶材材料熔點無關(guān)，可以避開由於固體轉(zhuǎn)為液體時產(chǎn)生的液滴現(xiàn)象所帶來的問題，自由粒子沉積到工作表面形成奈米(Nano)鍍膜結(jié)構(gòu)，具有無液滴、表面光滑、結(jié)合力好的特徵。
CEMECON同時提供CVD鑽石鍍膜服務(wù)
可適用各式產(chǎn)業(yè)之加工零件
- 航太
- 汽車
- 機械製造
CC800® HiPIMS 高效生產(chǎn)力的保障
- 高：沉積速率高達(dá)2 µm/小時
- 產(chǎn)能：純HiPIMS AlTiN進(jìn)出門時間僅需4小時30分鐘
- 安全可靠：塗層厚度公差範(fàn)圍小
- 堅硬、光滑、無液滴
- 更換塗層材料、刀具/批次--轉(zhuǎn)換時間最短。
- 全自動化。低維護(hù)成本
CC800® HiPIMS 創(chuàng)新者的工作平臺
- 開放性軟體：*開放軟體編輯許可權(quán)，設(shè)計自己的塗層結(jié)構(gòu)
- 開放式靶材：每個靶材都能滿足您的塗層願景
- 靈活無邊界：幾乎所有的材料都能應(yīng)用HiPIMS沉積
- 路徑便捷：預(yù)定義模型將您的理念快速轉(zhuǎn)化為實際塗層產(chǎn)品
- 設(shè)計自由：納米組合、多層複合、合金...一切皆有可能
HiPIMS
PVD塗層的未來
更緻密的塗層，更高強的硬度/韌性和更佳的切削效果 - 沉積速率高達(dá)2 μm/h.PVD塗層的未來
HiPIMS（高能脈衝磁控濺射）是濺射技術(shù)的發(fā)展方向，它結(jié)合了目前市場上常見塗層技術(shù)和方法的所有優(yōu)點。
"新塗層，新材料，新幾何形狀。HiPIMS塗層技術(shù)展示出延長刀具使用壽命的巨大潛力"
by Lothar Horn, VDMA精密刀具董事長
2016年1月13日在法蘭克福舉行的VDMA精密工具專業(yè)協(xié)會年度新聞發(fā)佈會上發(fā)表的聲明
2016年1月13日在法蘭克福舉行的VDMA精密工具專業(yè)協(xié)會年度新聞發(fā)佈會上發(fā)表的聲明
為滿足塗層生產(chǎn)工業(yè)化的要求，CemeCon對HiPIMS技術(shù)做了進(jìn)一步優(yōu)化。與直流濺射工藝一樣，HiPIMS可以幾乎無限多樣地進(jìn)行光滑、無液滴和低應(yīng)力的塗層沉積。
高達(dá)130N的劃痕載荷，證明了與高離化水準(zhǔn)直接相關(guān)的出色的塗層附著力。HiPIMS緻密和近乎非晶膜的塗層結(jié)構(gòu)成就了塗層在硬度、韌性兩方面的優(yōu)異性能。在刀具切削刃的三維方向上，均勻一致的塗層厚度分佈，為刀具提供了的磨損保護(hù)。
就技術(shù)而言,高達(dá)2μm/ h的沉積速率，意味著的靈活性和的生產(chǎn)率
將我們的塗層設(shè)備融入您的生產(chǎn)線
- CC800®HiPIMS結(jié)合了傳統(tǒng)直流濺射塗層系統(tǒng)的優(yōu)點和HiPIMS技術(shù)提供的無限可能性結(jié)合在一起。擁有它，您不僅能夠生產(chǎn)CemeCon所有的濺射塗層和市場上所有的PVD塗層，還能根據(jù)自己的需求生產(chǎn)自己的個性化的HiPIMS塗層。
- The CC800®的運行非常經(jīng)濟(jì)。 在純HiPIMS模式下，系統(tǒng)可實現(xiàn)2μm/ h的沉積速率和4-5小時的工藝週期，設(shè)備裝爐量高達(dá)1,800個桿刀或5,000個刀片。
- The CC800®是為市場上不同的客戶開發(fā)定制不同塗層產(chǎn)品的設(shè)備
- The CC800®操作介面簡單、方便、快捷，設(shè)備操作符合人體工程學(xué)原理，有利於生產(chǎn)設(shè)備的高效使用。
按您的要求在我們的塗層中心為您提供塗層服務(wù)
- 優(yōu)質(zhì)的塗層品質(zhì)
- 來自大塗層中心多年的經(jīng)驗及現(xiàn)場專家的智慧
- 刀片和桿刀專用生產(chǎn)線能夠確保您刀具的個性化、專業(yè)化處理的需求。
下載產(chǎn)品型錄
