金相顯微鏡是針對LCD、半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的,作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其性能,可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式,在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰,襯度更好。
二、技術規格
觀察頭:30°鉸鏈式三目(50mm-75mm)
目鏡:WF10×/25mm
WF10×/20mm,帶0.1mm十字分劃板
物鏡:平場無限遠長工作. 距離明暗場物鏡:5×/0.1B.D/W.D.29.4mm、
10×/0.25B.D/W.D.16mm、20×/0.40B.D/W.D.10.6mm、40×/0.60B.D/W.D.5.4mm、
轉換器:帶DIC插孔四孔轉換器
平臺:雙層移動平臺
平臺尺寸: 189mm×160mm
移動范圍:80mm×50mm
濾色片:插板式濾色片(綠、藍、中性)
聚光鏡:N.A.1.25阿貝聚光鏡帶可變光闌和濾色片
調焦:粗、微動同軸調焦,采用齒輪齒條傳動機構.微動格值0.002mm
光源:透射照明:鹵素燈12V/50W, AC85V-230V,亮度可調節
落射照明:帶孔徑光欄和視場光欄,鹵素燈12V/50W,AC85V-230V, 亮度可調節
偏光裝置:檢偏鏡可360度轉動,起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路
檢測工具:0.01mm測量尺
可供附件:二維測量軟件
專業金相圖像分析軟件
落射照明:鹵素燈12V/100W, AC85V-230V,亮度可調節
平場無限遠長工作距離明暗場物鏡:50×/0.55B.D/W.D.5.1mm、
80×/0.75B.D/W.D.4mm、100×/0.80B.D/W.D.3mm
測微目鏡
130萬、200萬、300萬、500萬像素CMOS電子目鏡
攝影裝置及CCD接口0.5×、0.57×、0.75×
DIC(10×、20×、40×、100×)
壓平機
彩色1/3寸CCD 520條線
三,微分干涉顯微鏡特點說明
1. 微分干涉顯微鏡采用了UIS高分辨率、長工作距離無限光路校正系統的物鏡成像技術。
2. 拓展了物鏡的復用技術,無限遠物鏡與所有觀察法相兼容包括明暗視野法、偏光法,DIC并在每一觀察法中均提供高清晰的圖像質量。
3. 微分干涉顯微鏡采用非球面Kohler照明,增加觀察亮度。
4. WF10×(Φ25)超大視野目鏡,長工作距離明暗場金相物鏡。
5. 可插DIC微分干涉裝置的轉換器。