概覽

等離子體清洗技術的特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對玻璃、金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。 等離子體的”活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

特點

• 采用納米噴頭高低壓轉換霧化設計，使液態分子極精細，且不影響藥水效果
• 恒定流量控制系統，保證藥水平穩恒定的供流，而非波浪線式供流，較好的解決白霧現象。
• 精確控制噴涂藥量，提高藥水的霧化能力，使膜層與玻璃能均勻的結合，提高產品噴涂的均勻性，增大膜層表面爽滑度；
• 噴嘴運動速度及輸送線速度均可調，極大的提高生產效率，滿足各種用戶需求。
• 采用*等離子清洗機， 鍍膜前對工件進行清洗處理， 改變工件表面特性，提高工件親水性，使玻璃表面與膜層發生附和反應，提高膜層結合的牢固度，提升產品的抗老化以及耐摩擦能力，使鍍膜品質更高。

技術參數