詳細說明
詳細描述：
【聚焦卡爾·蔡司】
世界光學品牌，可見光及電子光學的----德國蔡司公司始創于1846年。其電子光學前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個：
臺靜電式透射電鏡 (1949)
臺商業化掃描電鏡 (1965)
臺數字化掃描電鏡(1985)
臺場發射掃描電鏡(1990)
臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992)
臺具有Koehler照明的 200kV 場發射透射電鏡(2003)
臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發射透射電鏡(2003)
CARL ZEISS以其前瞻性的設計融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造核心*的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準的CARL ZEISS將一路電鏡市場為您開創探求納米科技的嶄新紀元。
【核心技術】
蔡司公司推出的Sigma 500場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，分辨率超過0.8nm，為您提供優秀分辨率和分析性能科研平臺。Sigma500專注于的EDS幾何學設計使您可以獲取的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數據。多種探測器的選擇使Sigma500可以精準的匹配您的應用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。
【技術參數】
分辨率：0.8nm@30kV STEM
0.8nm @15 kV
1.4 nm @1kV
放大倍數：10-1,000,000×
加速電壓：調整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現）
探針電流： 3pA～20nA（100nA選配） 穩定性優于 0.2%/h
低真空范圍：2-133Pa（Sigma 500VP可用）
樣品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）
樣品臺：5軸優中心全自動
X＝130mm
Y＝130mm
Z＝50mm
T＝-4°－70°
R＝360°
系統控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制
存儲分辨率：32k x 24k pixels
【產品應用】
掃描電鏡廣泛用于材料科學（金屬材料、非金屬材料、納米材料）、冶金、生物學、醫學、半導體材料與器件、地質勘探、病蟲害的防治、災害（火災、失效分析）鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業生產中的產品質量鑒定及生產工藝控制等。在材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料等領域，進行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體/晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
