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工業(yè)30L真空等離子清洗機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)TS-PL30
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2021-07-21
  • 訪問次數(shù)521
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深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是國(guó)內(nèi)早期批從事真空及大氣低溫等離子體(電漿) 技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)銷售于一體的國(guó)家,隸屬于東信高科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動(dòng)化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涵蓋等離子體表面處理,超聲波清洗、電鍍、制冷等領(lǐng)域。為適應(yīng)國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)對(duì)等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國(guó)等離子體研究等離子研究所,德國(guó)Diener公司實(shí)驗(yàn)室等國(guó)內(nèi)外科研機(jī)構(gòu),投入大量資金,先后研發(fā)出了等離子清洗機(jī)、等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機(jī)及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等自動(dòng)化設(shè)備。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造等行業(yè),在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突出。經(jīng)過近二十年的發(fā)展,不斷革新技術(shù)與產(chǎn)品,成功的推動(dòng)了我國(guó)低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和氣、液、固態(tài)物質(zhì)處理方面的發(fā)展。公司憑借強(qiáng)大的科研實(shí)力,已成功申請(qǐng)了多項(xiàng)技術(shù)。公司先后與富士康公司、美國(guó)AAC集團(tuán)、愛普生電子、中國(guó)兵器集團(tuán)、中國(guó)電子科技集、、東南大學(xué)光電實(shí)驗(yàn)室、深圳比亞迪股份有限公司等世界500強(qiáng)公司和研究單位達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的超聲波、等離子處理設(shè)備供貨商。公司秉承誠(chéng)信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營(yíng)理念,立足中國(guó),面向,打的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
超聲波模具拋光機(jī),超聲波清洗機(jī),水滴角測(cè)量?jī)x
產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 主要用來處理各類異形件,具有工藝參數(shù)靈活可控,溫度低等特點(diǎn),用于等離子清洗、刻蝕、鍍膜和表面改性等功能
工業(yè)30L真空等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

基本參數(shù)


電源頻率 40KHz/13.56MHz
容量 30L
功率 0~500W(可調(diào))
腔體尺寸(mm) 300*300*300
處理層數(shù) 7
外形尺寸(mm) 650W*700D*1400H
真空泵 油泵/干泵+羅茨組合
真空度 5~100Pa(可調(diào))
腔體材質(zhì) 316不銹鋼/進(jìn)口鋁合金(選配)
氣體流量控制 0~500SCCM(MFC±2%)
氣體通道 兩路(可增加):Ar/N2/H2/CF4/O2
等離子體發(fā)生器 40KHz/13.56MHz(選配)
腔體溫度 <30度
控制方式 PLC+觸摸屏
系統(tǒng)控制軟件 自主研發(fā)
電極陶瓷 進(jìn)口高頻陶瓷
應(yīng)用行業(yè)


等離子清洗機(jī)行業(yè)應(yīng)用


產(chǎn)品特點(diǎn)


真空等離子清洗機(jī)腔體、電源、真空泵等各類配件可以按照實(shí)際清洗的材料自由定做,與常壓等離子相比,具有清洗工藝參數(shù)自由調(diào)節(jié)、溫度低,清洗全面等特點(diǎn)。

廣泛應(yīng)用于活化,退鍍,改性,蝕刻,提升附著力和清洗等等功能。該設(shè)備也是目前清洗行業(yè),,有效性好的理想設(shè)備

主要功能:蝕刻:對(duì)于光致抗蝕劑聚酰亞膠的殘留和以硅化物為基本成分的涂層等材料的清除很有用粘附提升:往基質(zhì)上添加活化能力強(qiáng)的化學(xué)基團(tuán)以提高其粘合劑的黏著度。

清洗:清除材料上的光學(xué)物質(zhì)的污染以及清除有機(jī)物殘留,氧化和金屬鹽等對(duì)材料的污染。

活化:能使處理基材表面生成所需化學(xué)極鍵;退鍍:使被處理基材除去金屬等材料,制作各種產(chǎn)品。


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