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1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱沈陽科晶自動化設備有限公司
  • 品       牌沈陽科晶/KEJING
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間 2021-03-15
  • 訪問次數433
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沈陽科晶自動化設備有限公司是由畢業于美國麻省理工學院的江曉平博士于2000年5月創建。與合肥科晶材料技術有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯盟。自*SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設備潮流為目標的發展歷程。時至今日,已經擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結、分析等領域以及相關耗材的上百種產品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復合材料、生物材料等制備分析的全套需要。  沈陽科晶立足國內市場實際情況,以提供實用的產品為己任。產品的質量、精度在向國外企業看齊的基礎上,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。  沈陽科晶一直致力于高等院校、研究所、生產企業的科研服務,即產品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構、實驗室以及工廠的小規模生產。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務關系。其中北京大學、清華大學、浙江大學、哈爾濱工業大學、東北大學等高校,*金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學地質與地球物理研究所等科研機構,中國航天工業集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等*企業都是*合作的榮譽客戶。  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業實驗室,配備了優秀的專業技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環境,而且還可得到專業人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優質、高效、專業的銷售咨詢、售后服務團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導與售后服務。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標。  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
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1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD
1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD 產品信息

產品簡介:1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀,該磁控濺射頭可安裝直徑為1"的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配,因此可濺射各種靶材,如金屬靶材(如金、銀、銅等材料)、絕緣靶材(如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等)、磁性靶材、非磁性靶材等。采用高真空的結構設計,可提高鍍膜質量。1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD配裝有環形NdFeB永磁體在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性。

 

產品型號

1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD

主要特點

1、采用高質量的不銹鋼和陶瓷材料制作。

2、采用電磁場的有元計算法來設計永磁體,以得到較高的磁場強度和均勻分布。

3、磁體表面涂有保護層,以防止冷卻水的腐蝕,延長其使用壽命。

4、標準的HN型接頭,可與DCRF電源相匹配。

5、安裝采用標準真空接頭,便于操作。

6、靶材更換較為簡單,無需調整濺射頭的高度。

7、配有銅靶1塊。

技術參數

1、濺射頭直徑:Ø46.3mm

2所用靶材:直徑1"±0.02"(25.4mm),大厚度1/8"(3mm        

3磁環:NdFeB稀土永磁體

4、柄桿直徑:外徑3/4"

5、電路接頭:標準HN型接頭,可與DCRF電源相匹配

6、所需功率:DC250WRF100W

7、陰極濺射電流:大3A

8、陰極濺射電壓:200V-1000V

9、工作壓力范圍:1mtorr-1torr

10、濺射厚度均勻性:采用磁控濺射在氧化非晶硅片上沉積一個20nm的薄膜,直流功率150W真空環境

                                       10mtorr1"銅靶,與基片距離75mm

                                       

11、水冷卻:水管接頭為外徑0.25"快插頭,所需水流量1/2GPM,進水溫度<20

                       

12、高真空快速接頭:為贈送品,數量1個,內徑為0.75",可將濺射頭安裝在真空腔體上,真空腔體上的安裝

             孔直徑為1",真空腔體的壁厚不得大于1"

                                       

13、傾斜裝置:濺射頭相對于柄桿大可傾斜±45?,設有刻度線,可觀察到靶頭傾斜的角度

                         

產品規格

尺寸:14"355.6mm);重量:1.36kg

可選配件

1、循環水冷機,流量為16L/min,水箱容積為6L

2100W小型手動匹配型射頻電源RF-100-LD,可自行搭建濺射鍍膜儀。

主要應用

在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜,應用如下:

薄膜涂覆、半導體器件、磁記錄介質、超導薄膜、量子計算器件、MEMS、生物傳感器、納米技術、超晶格、顆粒膜、記憶合金、組合薄膜沉積、光學薄膜

關鍵詞:傳感器

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