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2000C真空高溫爐

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)微納(香港)科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2020-08-19
  • 訪問(wèn)次數(shù)278
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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微納(香港)科技有限公司(MNT)是一家專(zhuān)業(yè)的高科技儀器與設(shè)備供應(yīng)商。是由海外留學(xué)歸國(guó)人員創(chuàng)辦的專(zhuān)門(mén)從事國(guó)外檢測(cè)設(shè)備代理的高科技公司,我們已經(jīng)與多所高校共建了合作關(guān)系,致力于為中國(guó)材料,機(jī)械,半導(dǎo)體,醫(yī)學(xué),汽車(chē),航天等領(lǐng)域提供*的檢測(cè)設(shè)備與技術(shù)解決方案。 目前, 微納(香港)科技有限公司(MNT)是多家歐美、韓國(guó)儀器供應(yīng)商在中國(guó)的代理商,主要負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備在中國(guó)的銷(xiāo)售,技術(shù)支持與售后服務(wù), 產(chǎn)品涵蓋原子力顯微鏡、光學(xué)輪廓儀、表面輪廓儀、三維表面形貌儀、納米壓痕儀、微米壓痕儀、納米劃痕儀、微米劃痕儀、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)、磁控濺射鍍膜系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、CVD、等離子刻蝕機(jī)、真空高溫退火爐、棱鏡耦合儀、共聚焦拉曼顯微鏡等諸多產(chǎn)品,客戶(hù)遍及中國(guó)各大高校、科研院所及*企業(yè)。 我司的服務(wù)理念是:專(zhuān)業(yè)成就品質(zhì),服務(wù)創(chuàng)造價(jià)值,誠(chéng)信鑄就品牌!
顯微鏡,光學(xué)輪廓儀,表面輪廓儀,摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)
2000C真空高溫爐 產(chǎn)品信息

  • 儀器簡(jiǎn)介:

英國(guó)TE公司成立于1991年,是一家世界真空加熱部件及加熱設(shè)備供應(yīng)商,專(zhuān)注于提供真空環(huán)境下的加熱解決方案,產(chǎn)品涉及真空加熱臺(tái),真空高溫爐等設(shè)備。目前客戶(hù)遍及世界科研院所及企業(yè)。

英國(guó)TE公司2000C系列真空高溫爐可在高真空或保護(hù)氣體下工作,高溫度可達(dá)3000℃,加熱區(qū)為石墨材料或者鎢加熱區(qū),高真空度可達(dá)5*10-8mbar,操作簡(jiǎn)單,性能穩(wěn)定,儀器自帶報(bào)警功能能夠保證操作的安全性,同時(shí)可提供各種不同配置的儀器與定制模塊,以滿(mǎn)足客戶(hù)不同的需求,適用于各類(lèi)實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用及小規(guī)模生產(chǎn)。

  • 產(chǎn)品特色:

1、高溫度:真空環(huán)境下可達(dá)2100℃,保護(hù)氣氛環(huán)境下可達(dá)2600℃(鎢)甚至更高3000℃(石墨);

2、*的溫度均勻性:小于2%;

3、操作簡(jiǎn)單,幾乎全自動(dòng)操作,底部泵浦,底部抽運(yùn),頂部進(jìn)料;

4、高真空度:高達(dá)5*10-8mbar;

5、采用石墨或鎢材料進(jìn)行加熱;

6、升溫快:大于100℃/min;

7、真空腔壓力自動(dòng)控制;

8、氣體壓力控制精度高:<0.5bar

9、自動(dòng)報(bào)警系統(tǒng),可實(shí)時(shí)顯示工作狀態(tài);

10、自動(dòng)抽運(yùn)以清除氧氣(有氧氣的情況下,500℃以上會(huì)損壞加熱臺(tái));

11、*的安全性:電子鎖鎖死系統(tǒng)可保證操作的安全性;

12、采用四輪機(jī)械設(shè)計(jì),移動(dòng)方便;

13、采用鎢進(jìn)行加熱時(shí)退火氣體可以為氫氣。

  • 技術(shù)參數(shù):

1、溫度:標(biāo)準(zhǔn)儀器溫度為2100℃,2600℃、3000攝氏度可選

2、真空度參數(shù):

2*10-7MPa(采用Edwards RV 8機(jī)械泵)

5*10-11 MPa (采用擴(kuò)散泵)

5*10-12 MPa (采用Edwards Turbopump EXT75DX渦輪泵)

3、真空接口:ISO63或者KF25標(biāo)準(zhǔn)接口;

4、加熱速度:大于100℃/min,請(qǐng)參考下圖:

5、壓力控制精度:<0.5bar

6、分類(lèi)與尺寸:

分類(lèi)

熱區(qū)尺寸(mm)

爐膛尺寸(mm

中型坩堝真空高溫爐

Φ60.5*75

Φ305*500

大尺寸坩堝真空高溫爐

Φ150*75

Φ380*500

超大尺寸坩堝爐

Φ180*140

Φ420*520

整體加熱退火爐

Φ100*50

Φ420*317

小型真空平爐

Φ100*50

Φ420*317

中型真空平爐

Φ150*150

Φ420*317

大尺寸真空平爐

Φ200*200

Φ420*317

  • 設(shè)備組成: 

1、爐體及真空室

2、溫度控制系統(tǒng)

3、真空加熱臺(tái)

4、泵浦控制系統(tǒng)

5、真空泵(真空機(jī)械泵、真空擴(kuò)散泵或真空渦輪泵)

6、安全預(yù)警控制系統(tǒng)

7LED報(bào)

8、水冷系統(tǒng)

9、電子鎖自動(dòng)鎖死系統(tǒng)

10、氣體質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

輔助配置:

1、去離子水

2、惰性氣體

§ 選型指南

? C2000真空高溫爐用于任意材料的退火處理

? Anneal真空高溫爐二維材料及納米薄膜退火處理

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