干涉掃描原理 干涉掃描原理是利用精細光柵的衍射和干 涉形成位移的測量信號。 階梯狀光柵用作測量基準：高度0.2 µm的 反光線刻在平反光面中。光柵尺帶的前方 是掃描掩膜，其柵距與光柵尺帶的柵距相 同，是透射相位光柵。 光波照射到掃描掩膜時，光波被衍射為三 束光強近似的光：-1、0和+1。光柵尺帶 衍射的光波中，反射的衍射光中光強的光束為+1和-1。這兩束光在掃描掩膜的 相位光柵處再次相遇，又一次被衍射和干 涉。它也形成三束光，并以不同的角度離 開掃描掩膜。光電池將這些交變的光強信 號轉化成電信號。 掃描掩膜與光柵尺帶的相對運動使*級 的衍射光產生相位移：當光柵移過一個柵 距時，前一級的+1衍射光在正方向上移過 一個光波波長，-1衍射光在負方向上移過 一個光波波長。由于這兩個光波在離開掃 描光柵時將發生干涉，光波將彼此相對移 動兩個光波波長。也就是說，相對移動一 個柵距可以得到兩個信號周期。 例如，干涉光柵尺的柵距一般為8 µm、 4 µm甚至更小。其掃描信號基本沒有高次 諧波，能進行高倍頻細分。因此，這些光 柵尺特別適用于小測量步距和高精度應 用。盡管如此，其相對寬松的安裝公差使 它可用于許多應用。 LIP、LIF和PP直線光柵尺采用干涉掃描
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電子元器件 測量裝置 液壓傳動裝置 電氣自動化控制 機械動力裝置
流體控制系統 壓縮過濾系統 信號轉換傳輸系統 聯接裝置 機械設備
光學設備（除醫療器械） 泵閥類 電線電纜 五金交電 電子產品 儀器儀表
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